關于新冠肺炎疫情期間專利、集成電路布圖設計相關期限事項的補充說明

2020-02-24瀏覽次數(shù)：

來源：國家知識產(chǎn)權局網(wǎng)

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關于新冠肺炎疫情期間專利、集成電路布圖設計相關期限事項的補充說明

近期，為貫徹落實黨中央、國務院統(tǒng)一決策部署，積極應對新冠肺炎疫情對知識產(chǎn)權工作的影響，切實保障當事人合法權益和企業(yè)平穩(wěn)健康發(fā)展，國家知識產(chǎn)權局發(fā)布了《關于專利、商標、集成電路布圖設計受疫情影響相關期限事項的公告》（第350號）和《與疫情相關的恢復權利手續(xù)具體問題解答》（見國家知識產(chǎn)權局網(wǎng)站“局公告”、“政策解讀”欄目），現(xiàn)補充說明如下:

新冠肺炎疫情發(fā)生以來，各地紛紛啟動重大突發(fā)公共衛(wèi)生事件一級響應，出臺限制人員聚集、暫停營業(yè)和延遲復工等防護措施。為方便當事人辦理相關恢復權利手續(xù)，在當事人所在省、自治區(qū)、直轄市重大突發(fā)公共衛(wèi)生事件一級響應期間，因疫情相關原因延誤專利和集成電路布圖設計相關期限并導致其權利喪失，當事人在規(guī)定期限內(nèi)請求恢復權利的，無需提交證明材料。

國家知識產(chǎn)權局

2020年2月21日

來源：國家知識產(chǎn)權局網(wǎng)